ZEMAX OpticStudio 20.1.1 新版本发布

Zemax OpticStudio 20.1.1版让光学工程师轻松设计易于生产的光学产品、创造前沿的自由曲面设计。

Zemax 发布了王牌软件 OpticStudio 的最新版本。2020年，除了2月外，软件还将在6月和10月发布版本更新。这些版本将显著提升光学可制造性、公差分析、自由曲面设计等多个方面的功能。OpticStudio 20.1.1 将用更加完备的公差分析功能，业内领先的自由曲面设计功能以及定制化功能来开启崭新的一年。

产品新特性

1、全新的公差分析功能

OpticStudio 20.1.1能够帮助光学工程师快捷地得到真实的公差结果。快速灵敏度功能可对公差对光学性能的影响进行快速检查和预判，标准版、专业版、旗舰版软件中皆可使用该功能。此外，用户可根据制造业真实的默认公差标准，利用公差向导中新的公差预设来轻松地设置他们的系统，从而进行公差分析。

2、前沿的自由曲面设计

TrueFreeForm™是行业领先的自由曲面设计功能，光学设计师可以不受传统参数模拟方法的限制，从而创建和优化任何形状的镜片。本次发布的版本中包含了自由曲面设计周边功能的提升，包括支持离轴的表面数据分析、斜率分析、操作数、以及更快的Zernike计算。有了这些附加功能，用户可以轻松地优化出满足生产条件的最常见的自由曲面系统，并加以分析。

3、客户定制化功能

根据Kogelnik和RCWA方法，提升了准确模拟体全息光栅和表面浮雕光栅方面的功能。正确地模拟这些衍射光学元件可以计算出衍射效率，从而在进行光线追迹或图像模拟时能够得到真实的结果。

4、实验性功能

用户还会注意到在OpticStudio 20.1.1中包含了一些新的实验性功能。这些功能是我们计划6月发布的版本中的一部分。我们鼓励用户尝试这些功能并与我们分享使用反馈。

Zemax 首席执行官 S. Subbiah 博士表示：“在 OpticStudio 20.1.1 中，我们加入了能够帮助用户将他们的产品更快推向市场的新功能，这非常让人振奋。我们发现我们的新老客户都在公差分析、自由曲面设计方面有诸多需求。本次更新只是一个开始，我们将在接下来的一系列发布中聚焦于帮助我们的用户更加高效地构建更好的产品，同时降低生产成本。”

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