线上培训 | ZEMAX 成像光学系统设计

ZEMAX 成像光学系统设计 线上培训




课程大纲


1 Zemax OpticStudio简介

2 数据库;镜头库,材料库

3 玻璃材料以及如何定义新材料

4 像差简介以及OpticStudio中的像差图表

5 优化

6 局部/全局/锤形优化/优化操作数

7 优化实例:单透镜/双透镜

8 热分析

9 二元面及衍射光学表面

10 鬼像及杂散光分析

11 调制传递函数和成像质量评估

12 双高斯镜头的设计与优化

13 OpticStudio中的坐标系统

14 坐标间端面及其使用技巧

15 序列模式中饿棱镜模型

16 实例:扫描振镜

17 实例:科勒照明

18 转换为非序列模式

19 黑盒系统

20 OpticStudio中的优化工具

21 寻找最佳非球面/转换非球面类型

22 公差分析简介

23 制造误差和装配误差

24 公差评价标准

25 灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析

26 公差补偿器

27 公差操作数

28 公差示例:对单透镜/库克三片镜进行公差分析

29 公差报告

30 公差脚本

31 镜片/CAD制图


课程信息


费用:1680元/人


活动优惠:3人组团或者邀请10个好友转发朋友圈(请勿删除或分组)享九折优惠


课程日期:2020 年 9 月 28 日 - 29 日


课程时间: 9 :00 - 17 : 00


主办单位:武汉宇熠科技有限公司


报名方式


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联系方式
电话:027-87878386
邮箱:sales@ueotek.com