线上培训 | ZEMAX 成像光学系统设计
ZEMAX 成像光学系统设计 线上培训
课程大纲
1 Zemax OpticStudio简介
2 数据库;镜头库,材料库
3 玻璃材料以及如何定义新材料
4 像差简介以及OpticStudio中的像差图表
5 优化
6 局部/全局/锤形优化/优化操作数
7 优化实例:单透镜/双透镜
8 热分析
9 二元面及衍射光学表面
10 鬼像及杂散光分析
11 调制传递函数和成像质量评估
12 双高斯镜头的设计与优化
13 OpticStudio中的坐标系统
14 坐标间端面及其使用技巧
15 序列模式中饿棱镜模型
16 实例:扫描振镜
17 实例:科勒照明
18 转换为非序列模式
19 黑盒系统
20 OpticStudio中的优化工具
21 寻找最佳非球面/转换非球面类型
22 公差分析简介
23 制造误差和装配误差
24 公差评价标准
25 灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析
26 公差补偿器
27 公差操作数
28 公差示例:对单透镜/库克三片镜进行公差分析
29 公差报告
30 公差脚本
31 镜片/CAD制图
课程信息
费用:1680元/人
活动优惠:3人组团或者邀请10个好友转发朋友圈(请勿删除或分组)享九折优惠
课程日期:2020 年 9 月 28 日 - 29 日
课程时间: 9 :00 - 17 : 00
主办单位:武汉宇熠科技有限公司
报名方式
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联系方式
电话:027-87878386
邮箱:sales@ueotek.com