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ZEMAX 成像光学系统设计 线上培训




培训课程一:ZEMAX 成像光学系统设计 线上培训


课程大纲


1 Zemax OpticStudio简介

2 数据库;镜头库,材料库

3 玻璃材料以及如何定义新材料

4 像差简介以及OpticStudio中的像差图表

5 优化

6 局部/全局/锤形优化/优化操作数

7 优化实例:单透镜/双透镜

8 热分析

9 二元面及衍射光学表面

10 鬼像及杂散光分析

11 调制传递函数和成像质量评估

12 双高斯镜头的设计与优化

13 OpticStudio中的坐标系统

14 坐标间端面及其使用技巧

15 序列模式中饿棱镜模型

16 实例:扫描振镜

17 实例:科勒照明

18 转换为非序列模式

19 黑盒系统

20 OpticStudio中的优化工具

21 寻找最佳非球面/转换非球面类型

22 公差分析简介

23 制造误差和装配误差

24 公差评价标准

25 灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析

26 公差补偿器

27 公差操作数

28 公差示例:对单透镜/库克三片镜进行公差分析

29 公差报告

30 镜片/CAD制图



培训课程二:ZEMAX 照明设计与杂散光分析


课程大纲


01 非序列光线追迹

02 光源物体

03 探测器物体

04 分辨率 VS 噪声

05 照明单位 & 几何量

06 光源建模

07 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型

08 光源建模:Source Radial

09 光原建模:内置几何模型

10 光原建模:使用测量数据

11 生成 Source Model 光线

12 模拟光源光谱

13 色度学

14 建模彩色光源

15 测量颜色数据

16 照明系统

17 抛物面反射器

18 Sobol 采样

19 BMP 位图优化

20 复合抛物面聚光器 CPC

21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列

22 复杂几何体

23 嵌套规则

24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体

25 CAD 导入 & 导出

26 使用混合模式

27 偏振光线追迹

28 物体属性:面分组 & 属性

29 光线分裂

30 X-Cube 棱镜

31 简单光线分裂

32 非序列设置

33 故障排查:光线追迹中止条件

34 故障排查:几何错误

35 “ Inside of ” 标识

36 故障排查:胶合距离

37 故障排查:面元物体 & 绘图精度

38 序列模式转换成非序列模式

39 杂散光分析介绍

40 散射

41 杂散光分析工具

42 Maksutov 杂散光分析

43 非序列鬼像分析

44 非序列系统公差分析



课程信息


费用:费用均为 1680元/人


活动优惠:同时报名参加享九折优惠


培训形式:线上培训


课程日期:2020 年 10 月 24 日 - 27 日


课程时间: 9 :00 - 17 : 00


主办单位:武汉宇熠科技有限公司


报名方式


联系方式
电话:027-87878386
邮箱:sales@ueotek.com

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