Zemax OpticStudio 18.4 全新发布

近期针对 OpticStudio 用户的调查回访显示，对于工程师而言，在进行产品仿真时，OpticStudio 最重要的功能之一就是能够在同一光学系统中分别进行序列和非序列光线追迹。对于产品而言，在仿真建模时，确保其可制造性是非常重要的，这就包括需要在序列模式下进行设计与分析，也需要在非序列模式下进行模拟。无论系统简单还是复杂，OpticStudio 都可以在生产样机之前就帮助你解决光学设计方面的问题。本次发布的 OpticStudio 18.4，包含多个新增功能以及功能增强，来帮助你更加精准的仿真光学系统。

全新全视场像差分析 – 通过对您的系统进行全视场分析，观测不同类型的像差是如何降低您系统的光束或成像质量，极大地增进了您在自由曲面领域的设计体验

转换为NSC组工具的更新升级 – 使具有偏心孔径的离轴系统实现自动转换

全新组合透镜物体 – 在非序列模式下模拟复杂透镜，用于杂散光分析以及光机设计

全新原生布尔物体 – 在复杂物体内进行更快速度、更高精度以及更可靠的光线追迹

OpticStudio 为快速验证光学设计想法提供了灵活、直观并且强大的建模环境。我们近期的调查结果显示，对于用户而言，OpticStudio 的用户界面以及整体可用性依然至关重要。本次发布的新版本，针对可用性有以下更新：

全新搜索功能 – 使用该功能，帮助你在编辑器中快速找到需要的表面、物体或操作数

全新书签功能 – 使用该功能，充分完善对编辑器内容的组织安排。

想要了解新版本的全部新功能以及改进，请点击参阅 OpticStudio 18.4版本说明。