第22期线上培训招生 | Ansys Zemax 成像设计课程 最新升级！

培训大纲

1 Zemax OpticStudio简介
2 数据库；镜头库，材料库
3 玻璃材料以及如何定义新材料
4 像差简介以及ZEMAX中的像差图表
5 优化原理和优化向导
6 局部/全局/锤形优化/优化操作数
7 实例：单透镜/双透镜的建模和优化
8 热分析和消热差优化
9 二元面及衍射光学表面
10 鬼像及杂散光分析
11 调制传递函数MTF和成像质量评估
12 双高斯镜头的设计与优化，图像模拟功能
13 ZEMAX中的坐标系统
14 坐标间端面及其使用技巧
15 序列模式中的棱镜模型
16 实例：扫描振镜
17 实例：投影系统设计，科勒照明系统设计
18 混合模式和非序列模式
19 黑盒系统
20 ZEMAX中的快速优化工具
21 寻找最佳非球面/转换非球面类型
22 公差分析简介
23 制造误差和装配误差
24 公差评价标准
25 灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析
26 公差补偿器
27 公差操作数
28 实例：对单透镜/库克三片镜进行公差分析
29 公差报告详解
30 公差脚本简介
31 镜片/CAD制图

培训信息

主办单位：武汉宇熠科技有限公司
会议主题：Ansys Zemax 成像设计
培训讲师：武汉宇熠科技有限公司光学高级工程师
培训时间：2023年3月1日- 2日（9：00-17：00）
培训费用：¥ 1980元 / 人
三人及以上组团报名可享受八折优惠！
报名方式：扫码报名