Ansys Zemax 成像设计重新开班啦

从2013年至今，武汉宇熠已经陪伴各位光学同行走过武汉、北京、杭州、深圳、成都、西安等地，完成了百余期线上线下课程和研讨会，培养了来自全国各地近2000名学员。

武汉宇熠具备完善的教学体系、良好的口碑和众多光机电学习资料，也拥有经验丰富的光学工程师团队，老师全程线下授课、教学内容通俗易懂，能解决学员现有的项目问题。

武汉宇熠为学员提供正版软件和专业的培训教室，始终围绕“实操演练”，旨在让学员能在实际上手操作中发现问题，解决问题，突破传统成长方式，快速获得光机电技术提升。

由于很多客户反馈错过了上次的线下培训，武汉宇熠将在6月5日-7日举办为期3天的成像设计培训活动！

本次培训主题为『Ansys Zemax 成像设计』，由宇熠高级光学工程师主讲，针对序列成像设计，帮助学员们掌握 优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换 等知识点。线下培训学习效率更高、更丰富、更精准，可直接与老师面对面交流提问，当场解决记忆深刻。

培训信息

主题：Ansys Zemax 成像设计
主办方：武汉宇熠科技有限公司
时间：2024年6月5日-7日（共三天）
地点：湖北武汉

课程安排

注意：

1、课堂上统一发送配套的培训教材。
2、学员自备笔记本电脑，培训结束后将为每位学员颁发培训证书。
3、为提高培训效率，本次培训采用小班授课模式。培训名额有限，欲报从速。
4、如报名人数未达最低开课标准，武汉宇熠有权取消或延迟本门课程， 具体情况以开课前一周通知为准。

培训费用

费用：¥ 3980元 / 人
· 三人及以上组团报名可享受八折优惠；
· 费用含培训、教材、发票、证书，其他费用自理；
· 发票统一开“培训服务费”。
报名方式：扫码报名

我们诚意邀请各位光学同行踊跃参与本次培训，相聚武汉一起交流经验，期待与您相见。