回顾 | 年后首场 Ansys Zemax 成像设计线下培训完美收官

Ansys Zemax 成像设计线下培训

2025年2月28日下午,年后首场Ansys Zemax 成像设计线下培训在湖北武汉光谷圆满结束,快来看一下现场的精彩瞬间吧↓↓↓

01 实战演练，技能提升

本次培训通过理论结合实践的教学模式，助力参训人员掌握了从简单单透镜设计到复杂双高斯镜头设计和公差分析等多个技能，同时也提升了在光学镜头设计、优化和分析方面的能力。

02 互动交流，共同进步

培训期间设置自由交流时段，参训工程师们自发形成多个技术讨论组，围绕实际工作中的复杂光学问题展开深入交流。

03 总结

经过线下三天的高强度研习，参训工程师们系统构建了Zemax成像设计的基础概念到高级应用的知识体系，还对光学成像有了更全面、深入的理解。

本次培训采用小班制教学，确保每位参训工程师都能得到个性化技术指导。

我们持续聚焦光学工程前沿需求，3月照明设计与杂散光分析场次现已开放报名，期待与您相遇

如果你错过了这次培训，不要遗憾！关注我们【UEOTEK】公众号，随时了解更多最新资讯及培训信息！