《ZEMAX高级成像设计培训课程》招生了~

招生啦！六月过半，迎来一场专业课程欢迎报名参加我司举办的《ZEMAX 高级成像设计基础课程》培训。

开课地点：武汉

开课时间： 2019年07月4-5日（2019年07月4-5日（9：00AM-17:00PM）二天

课程简介：

本次课程将主要介绍使用 OpticStudio 进行光学系统设计的高级应用。在初阶成像课的基础上，深入介绍 OpticStudio 成像系统分析优化逻辑，通过实例介绍非球面、自由曲面的设计，并介绍高级公差分析技巧。

举办单位： 武汉宇熠科技有限公司

授课内容：
 第一天：ZEMAX 深入介绍 OpticStudio 成像系统分析优化逻辑，通过实例介绍非球面、自由曲面的设计
 第二天：介绍高级公差分析技巧

所获技能：
 使用自由曲面和非球面
 应用高级公差分析方法

重大消息提示：

必备基础： 了解基本的光学概念

报名培训费用： 标准收费为￥3500元/人
团体（3人及以上）报名可以享受九折优惠，提前一个月报名可以享受九折优惠。以上优惠不可叠加使用。
提供服务性发票。

报名入口：请点击链接前往报名

注： 1. 若报名人数未达最低开课标准，武汉宇熠有权取消或延迟本门课程，具体情况以开课前一周通知为准； 2. 本活动最终解释权归武汉宇熠科技有限公司所有。