OpticStudio 19.8 正式发布！

OpticStudio 19.8 正式发布 全新功能高良率优化 让您的设计更容易被生产！

OpticStudio强大的建模分析能力可以帮助您快速完成光学系统的原型机设计并分析实际加工对系统的影响。在本次版本更新中主要更新升级的功能有：

OpticStudio 19.8 中新的优化功能使您能在正常设计中降低设计敏感度，新功能针对订阅授权的专业版和旗舰版。由 Zemax 创始人 Ken Moore 提出的新的优化方法主要尝试降低加工误差和装调误差。 高良率优化作为新的部分被加入到优化向导中。如下图所示，在评价函数编辑器中使用操作数 HYLD 构建并计算评价函数。

提升生产良率优化是优化一个需要生产的系统时新的推荐使用的优化方法。通过使用高良率优化，您可以显著减少公差分析时间，一次就能创建可生产的设计！

SMIA-TV 畸变已经作为展示选项被添加到场曲/畸变图中。这对使用SMIA-TV畸变作为评估标准的用户来说能够更容易在OpticStudio中查看他们系统中的畸变。 如下图所示，该功能可以在场曲/畸变图中的畸变可选项中找到。

为了简化变量和视场求解设置的流程，同时也为了与其他编辑器的设置方式保持一致，视场数据编辑器现在也支持设置变量和求解类型。这个功能与镜头数据编辑器和多重结构编辑器中设变量与求解的功能一样，如下图所示。

现在可以使用优化向导直接将最大畸变添加到评价函数编辑器中。在优化向导的优化函数部分可以找到新的最大畸变选项。另外，也将忽略垂轴色差选项移到了优化函数部分。

此外，新版本还新增了ZPL关键字和ZOS-API 案例，在性能与稳定性方面进行了多项功能提升。如需了解详细信息， “此处下载 ” http://www.ueotek.com/outlink/zemax-19.8 _.pdf 请点击获取OpticStudio 19.8 版本说明！