Ansys Zemax 成像设计线下培训报名通道正式开启！
本次培训主题为『Ansys Zemax 成像设计』，由宇熠高级光学工程师主讲，针对序列成像设计，帮助学员们掌握热分析、像质评价、坐标变换等知识点。
线下培训由宇熠资深行业讲师带教，配套真实项目案例实操，确保所学即所用，切实提升团队技术实力与个人职业竞争力。
课程安排
培训详情
1、培训信息
- 课程主题：Ansys Zemax 成像设计
- 主办单位：武汉宇熠科技有限公司
- 培训讲师：宇熠资深光学工程师
- 培训时间:2025年10月29日-31日(9:00-17:00)
- 课程费用：3980元/人
- 培训地点：湖北武汉
2、注意事项
- 发票统一开“培训服务费”；
- 本次培训提供培训证书；
- 三人及以上组团报名可享受八折优惠；
- 费用含培训、教材、发票和证书，其他费用自理；
- 为提高培训效率，本次培训采用小班授课模式。培训名额有限，欲报从速；
- 如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。
3、报名方式
培训预告
Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
培训简介：培训将系统性讲解光源建模、优化方法及杂散光分析核心内容，并搭配真实项目案例实操。课程聚焦光电行业核心需求，助力学员掌握照明设计精度与杂散光控制关键技术。
培训时间：2025年11月
培训地点：湖北·武汉
